टैंटलम का रासायनिक वाष्प जमाव

टैंटलम का रासायनिक वाष्प जमाव एक अनूठा टैंटलम उपचार है जो विभिन्न प्रकार के संक्षारक रासायनिक वातावरणों में फास्टनरों के जीवन का विस्तार करता है। फास्टनरों का स्ट्रेस जंग क्रैकिंग (एससीसी) एक आम समस्या है जहां तन्यता तनाव और जंग एक साथ कार्य करते हैं। एक रासायनिक वाष्प जमा टैंटलम परत के साथ इलाज किया जाता है, जंग समाप्त हो जाती है और तनाव क्षरण के कारण होने वाले दोषों को रोका जाता है। टैंटलम को औद्योगिक उपयोग के लिए सबसे अधिक संक्षारण - प्रतिरोधी धातु के रूप में मान्यता प्राप्त है। टैंटलम के रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा तैयार टैंटलम कोटिंग में उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध होता है और विभिन्न फास्टनरों के सेवा जीवन को बढ़ाता है।

रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया का उपयोग टैंटलम कोटिंग्स के रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) के लिए किया जाता है, जो धागे जैसे जटिल ज्यामिति के लिए उपयुक्त समान टैंटलम परतों का उत्पादन कर सकता है। सीवीडी टैंटलम से उपचारित फास्टनरों में स्टेनलेस स्टील की तुलना में उत्कृष्ट उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोध होता है। यह गर्म एसिड की उपस्थिति में तनाव जंग, जंग थकान, और दरार जंग सहित जंग के सभी रूपों से बचाता है, जिससे विफलता कम हो जाती है। एक अन्य लाभ आसान जुदा करना है, रखरखाव के समय और लागत को कम करना। टैंटलम सतह के धातुकर्म गुण किफायती मूल्य और कम लीड समय के साथ एक ठोस उत्पाद का उत्पादन करने के लिए एक समान, अनुरूप सीवीडी परत के साथ गठबंधन करते हैं