Niobium Hafnium मिश्र धातु डिस्क और लक्ष्य

Niobium Hafnium मिश्र धातु डिस्क विवरण:

नाइओबियम हेफ़नियम मिश्र धातु आमतौर पर इलेक्ट्रॉन बीम पिघलने और वास्तविक खाली बिजली खपत चाप पिघलने के संयोजन से अति सक्रिय विधि द्वारा तैयार किया जाता है। फिर इसे 1200 डिग्री से ऊपर के तापमान पर बाहर निकाला या जाली बनाया जा सकता है, और 500 डिग्री से नीचे के तापमान पर लुढ़का और खींचा जा सकता है। नाइओबियम हेफ़नियम मिश्र धातु प्लेट, नाइओबियम हेफ़नियम मिश्र धातु पट्टी, नाइओबियम हेफ़नियम मिश्र धातु की छड़, नाइओबियम हेफ़नियम मिश्र धातु के तार और नाइओबियम हेफ़नियम मिश्र धातु फोर्जिंग जैसे उत्पाद बनाए जा सकते हैं।

हमारे उच्च गुणवत्ता वाले नाइओबियम हेफ़नियम डिस्क का उपयोग रासायनिक, जहाजों, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले (एलसीडी) और प्रवाहकीय कोटिंग उद्योग आदि में किया जाता है। हम इसे आपकी आवश्यकताओं के लिए अनुकूलित कर सकते हैं।

Niobium Hafnium मिश्र धातु लक्ष्य अनुप्रयोग और संबंधित उद्योग

● अनुसंधान और प्रयोगशाला

रसायन

जहाज

● लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले (एलसीडी) और

प्रवाहकीय कोटिंग उद्योग

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